这款 20W 紫外光纤耦合激光模块是光刻系统的高性能核心组件，兼具精度、功率和可靠性，可满足微加工和半导体加工的严苛要求。它工作在 405nm 紫外波长，输出功率高达 20W，可提供针对光刻任务优化的强激光能量，从而能够在硅片、玻璃和光刻胶材料等基底上进行高分辨率图案化。
这款 405nm 20W 紫外光纤耦合激光模块的光纤芯径为 105μm，可确保高效的光传输和精确的光束传输。光纤耦合设计增强了系统集成的灵活性，使光刻工作区域的能量分布稳定均匀——这对于生产复杂的微结构、电路图案和高精度组件并最大程度地降低失真至关重要。
405nm 20W 紫外光纤耦合激光器模块采用优质光学元件和先进的水冷技术，在长时间运行中保持卓越的稳定性，最大限度地减少了可能影响图案精度的功率波动。其高功率密度支持更快的曝光时间，同时不影响分辨率，使其适用于研究级和工业级光刻设备。
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